納米氧化鈰（vk-ce01）在化學(xué)拋光上的應(yīng)用

由于納米氧化鈰（vk-ce01 30nm）具有強(qiáng)氧化作用，作為層間二氧化硅介電層拋光的研磨粒子具有平整質(zhì)量高，拋光速率快，選擇性好的優(yōu)點(diǎn)。納米氧化鈰粒子比二氧化硅粒子柔軟，在拋光過程中，不容易掛上玻璃拋光面，而且具有拋光速率快的優(yōu)點(diǎn)，這主要是納米氧化鈰粒子在拋光過程中所起的化學(xué)作用。

首先納米氧化鈰粒子通過化學(xué)反應(yīng)與拋光表面si之間形成ce-o-si鍵，納米氧化鈰粒子便把玻璃表面的部分sio2撕咬下來，進(jìn)入溶液中；經(jīng)過分散后，二氧化硅粒子又從二氧化鈰粒子表面脫落下來，ce-o-si鍵的形成與si-o-si鍵的斷裂影響著拋光速率，化學(xué)解聚作用和機(jī)械撕咬作用同時(shí)影響著si-o-si鍵的斷裂。